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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「サムコ株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5354643 | ドライ洗浄装置及びドライ洗浄方法 | サムコ株式会社 | 2013年11月27日 |
| 特許 5288555 | 誘導結合プラズマ処理装置及びプラズマエッチング方法 | サムコ株式会社 | 2013年 9月11日 |
| 特許 5277473 | プラズマ処理装置 | サムコ株式会社 | 2013年 8月28日 |
| 特許 5200221 | プラズマ処理装置 | サムコ株式会社 | 2013年 6月 5日 |
| 特許 5196493 | プラズマ処理装置 | サムコ株式会社 | 2013年 5月15日 |
| 特許 5196474 | 薄膜製造装置 | サムコ株式会社 | 2013年 5月15日 |
| 特許 5177757 | 気相成長装置及び該装置における窒素ガス中の酸素除去方法 | サムコ株式会社 | 2013年 4月10日 |
| 特許 5131762 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置並びにプラズマ処理用トレイ | サムコ株式会社 | 2013年 1月30日 |
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5354643 5288555 5277473 5200221 5196493 5196474 5177757 5131762
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