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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3099位 6件
(
2015年:第7196位 2件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第4304位 3件
(
2015年:第5375位 2件)
(ランキング更新日:2025年12月24日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5967710 | プラズマエッチングの終点検出方法 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5961794 | 高アスペクト比の凹凸構造を有するシリコン基板の製造方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5916105 | 半導体装置の製造方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5866595 | プラズマ処理装置用トレイ及びプラズマ処理装置 | 2016年 2月17日 |
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5967710 5961794 5916105 5866595
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12月24日(水) -
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