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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「サムコ株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5561812 | プラズマ処理装置 | サムコ株式会社 | 2014年 7月30日 |
| 特許 5555871 | 半導体素子の製造方法及び半導体素子 | サムコ株式会社 | 2014年 7月23日 |
| 特許 5545488 | プラズマ処理装置 | サムコ株式会社 | 2014年 7月 9日 |
| 特許 5493062 | 有機金属気相成長装置 | サムコ株式会社 | 2014年 5月14日 |
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5561812 5555871 5545488 5493062
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