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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第4725位 4件
(2021年:第7646位 2件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第27906位 0件
(2021年:第25492位 0件)
(ランキング更新日:2025年3月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2022-539153 | 基板の被加工面に供給されるエネルギー量を空間的に制御するためのシステムおよび方法 | 2022年 9月 7日 | |
特開 2022-61475 | 不均一性の照射を最小限に抑えるためのシステムと方法 | 2022年 4月18日 | |
特開 2022-51542 | 被処理基板のフレームを均一に照射する方法およびシステム | 2022年 3月31日 | |
特表 2022-510520 | 基板を熱処理するための方法及び関連のシステム | 2022年 1月27日 |
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2022-539153 2022-61475 2022-51542 2022-510520
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