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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第2281位 9件
(2015年:第1382位 18件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1366位 15件
(2015年:第2434位 6件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6014683 | 側方排気方式基板処理装置 | 2016年10月25日 | |
特許 6009677 | 基板処理装置 | 2016年10月19日 | |
特許 6002837 | 基板処理装置 | 2016年10月 5日 | |
特許 5996084 | ヒータ昇降型基板処理装置 | 2016年 9月21日 | |
特許 5978301 | エピタキシャルプロセスのための半導体製造設備 | 2016年 8月24日 | |
特許 5957609 | 基板処理装置 | 2016年 7月27日 | |
特許 5952961 | 基板処理装置 | 2016年 7月13日 | |
特許 5919388 | 位相差を有する反応ガスを供給する基板処理装置 | 2016年 5月18日 | |
特許 5899318 | エピタキシャルプロセスのための半導体製造設備 | 2016年 4月 6日 | |
特許 5882499 | 冷却式シャワーヘッド及びそれを具備する基板処理装置 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5879447 | 処理ユニットを含む基板処理装置 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5848832 | 熱遮断プレートを含む基板処理装置 | 2016年 1月27日 | |
特許 5844899 | エピタキシャルプロセスのための半導体製造設備 | 2016年 1月20日 | |
特許 5844900 | エピタキシャルプロセスのための半導体製造設備 | 2016年 1月20日 | |
特許 5844919 | 補助ガス供給ポートを含む基板処理装置 | 2016年 1月20日 |
15 件中 1-15 件を表示
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6014683 6009677 6002837 5996084 5978301 5957609 5952961 5919388 5899318 5882499 5879447 5848832 5844899 5844900 5844919
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