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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第7646位 2件
(2020年:第3088位 6件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1576位 11件
(2020年:第2152位 7件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6986317 | マスクユニット及び露光装置 | 2021年12月22日 | |
特許 6949521 | 露光装置、露光装置の動作方法及び基板貼り付き防止フィルム | 2021年10月13日 | |
特許 6925783 | パターン描画装置及びパターン描画方法 | 2021年 8月25日 | |
特許 6925921 | 露光装置及び露光方法 | 2021年 8月25日 | |
特許 6904662 | 露光装置 | 2021年 7月21日 | |
特許 6894034 | ワーク吸着保持方法、ワークステージ及び露光装置 | 2021年 6月23日 | |
特許 6865609 | 露光装置 | 2021年 4月28日 | |
特許 6857585 | 露光装置 | 2021年 4月14日 | |
特許 6832412 | ロールツーロール両面露光装置 | 2021年 2月24日 | |
特許 6820186 | 基板取り扱い装置及び基板取り扱い方法 | 2021年 1月27日 | |
特許 6811015 | ロールツーロール両面露光装置 | 2021年 1月13日 |
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6986317 6949521 6925783 6925921 6904662 6894034 6865609 6857585 6832412 6820186 6811015
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4月4日(金) -
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4月9日(水) -
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4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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4月11日(金) -
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