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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第277位 131件
(
2019年:第263位 144件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第204位 144件
(
2019年:第193位 139件)
(ランキング更新日:2026年10月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6732081 | マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6726464 | 光学素子の製造方法及び光学素子の製造装置 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6726541 | 内視鏡システム | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6726553 | フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6726709 | 内視鏡用キャップ | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6727405 | 内視鏡 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6727879 | マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6728480 | 内視鏡 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6720139 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2020年 7月 8日 | |
| 特許 6720360 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 | 2020年 7月 8日 | |
| 特許 6715360 | フォトマスク基板 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6716316 | 多層膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6716427 | フォトマスク、近接露光用フォトマスクの製造方法、及び、表示装置の製造方法 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6716706 | 内視鏡用光源装置、内視鏡、及び内視鏡システム | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6713251 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 | 2020年 6月24日 |
145 件中 61-75 件を表示
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6732081 6726464 6726541 6726553 6726709 6727405 6727879 6728480 6720139 6720360 6715360 6716316 6716427 6716706 6713251
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