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HOYA株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第250位 164件 上昇2020年:第260位 156件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第232位 123件 下降2020年:第204位 144件)

(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2021-173874 光学素子及び光学装置 2021年11月 1日
特開 2021-167062 固定砥粒砥石 2021年10月21日
特開 2021-159293 起上台及び内視鏡 2021年10月11日
特開 2021-159525 内視鏡装置 2021年10月11日
再表 2020-95959 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 2021年10月 7日
特開 2021-153808 プログラム、情報処理方法、情報処理装置及び診断支援システム 2021年10月 7日
特開 2021-153961 内視鏡及び内視鏡システム 2021年10月 7日
特開 2021-155267 枠付きレンズ並びにその成形型及び成形方法 2021年10月 7日
特開 2021-157097 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 2021年10月 7日
特開 2021-157121 リソグラフィマスクの製造方法、リソグラフィマスク、および、半導体装置の製造方法 2021年10月 7日
再表 2020-166475 マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2021年 9月30日
特開 2021-152574 フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 2021年 9月30日
特開 2021-148928 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 2021年 9月27日
特開 2021-148929 誘電体層付き基板及びEUV露光装置の集塵方法 2021年 9月27日
特開 2021-148968 マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 2021年 9月27日

164 件中 16-30 件を表示

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2021-173874 2021-167062 2021-159293 2021-159525 2020-95959 2021-153808 2021-153961 2021-155267 2021-157097 2021-157121 2020-166475 2021-152574 2021-148928 2021-148929 2021-148968

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