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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第250位 164件
(2020年:第260位 156件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第232位 123件
(2020年:第204位 144件)
(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-173874 | 光学素子及び光学装置 | 2021年11月 1日 | |
特開 2021-167062 | 固定砥粒砥石 | 2021年10月21日 | |
特開 2021-159293 | 起上台及び内視鏡 | 2021年10月11日 | |
特開 2021-159525 | 内視鏡装置 | 2021年10月11日 | |
再表 2020-95959 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-153808 | プログラム、情報処理方法、情報処理装置及び診断支援システム | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-153961 | 内視鏡及び内視鏡システム | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-155267 | 枠付きレンズ並びにその成形型及び成形方法 | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-157097 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 | 2021年10月 7日 | |
特開 2021-157121 | リソグラフィマスクの製造方法、リソグラフィマスク、および、半導体装置の製造方法 | 2021年10月 7日 | |
再表 2020-166475 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2021年 9月30日 | |
特開 2021-152574 | フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2021年 9月30日 | |
特開 2021-148928 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 | 2021年 9月27日 | |
特開 2021-148929 | 誘電体層付き基板及びEUV露光装置の集塵方法 | 2021年 9月27日 | |
特開 2021-148968 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 | 2021年 9月27日 |
164 件中 16-30 件を表示
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2021-173874 2021-167062 2021-159293 2021-159525 2020-95959 2021-153808 2021-153961 2021-155267 2021-157097 2021-157121 2020-166475 2021-152574 2021-148928 2021-148929 2021-148968
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
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2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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