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ＨＯＹＡ株式会社

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　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第265位　128件（2020年：第277位　131件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第232位　123件（2020年：第204位　144件）

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-171475	内視鏡及び内視鏡システム	2021年11月 1日
特開 2021-167062	固定砥粒砥石	2021年10月21日
特開 2021-159525	内視鏡装置	2021年10月11日
特開 2021-159293	起上台及び内視鏡	2021年10月11日
特開 2021-157121	リソグラフィマスクの製造方法、リソグラフィマスク、および、半導体装置の製造方法	2021年10月 7日
再表 2020-95959	多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法	2021年10月 7日
特開 2021-153808	プログラム、情報処理方法、情報処理装置及び診断支援システム	2021年10月 7日
特開 2021-153961	内視鏡及び内視鏡システム	2021年10月 7日
特開 2021-157097	多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法	2021年10月 7日
特開 2021-155267	枠付きレンズ並びにその成形型及び成形方法	2021年10月 7日
特開 2021-152574	フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法	2021年 9月30日
再表 2020-166475	マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法	2021年 9月30日
特開 2021-148928	多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法	2021年 9月27日
特開 2021-148929	誘電体層付き基板及びＥＵＶ露光装置の集塵方法	2021年 9月27日
特開 2021-148968	マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法	2021年 9月27日

128 件中 16-30 件を表示

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2021-171475 2021-167062 2021-159525 2021-159293 2021-157121 2020-95959 2021-153808 2021-153961 2021-157097 2021-155267 2021-152574 2020-166475 2021-148928 2021-148929 2021-148968

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