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HOYA株式会社

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 ■ 2021年 出願公開件数ランキング    第265位 128件 (上昇2020年:第277位 131件)

 ■ 2021年 特許取得件数ランキング    第232位 123件 (下降2020年:第204位 144件)

(ランキング更新日:2026年11月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2021-148968 マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 2021年 9月27日
特開 2021-148929 誘電体層付き基板及びEUV露光装置の集塵方法 2021年 9月27日
特開 2021-148928 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 2021年 9月27日
特開 2021-144237 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 2021年 9月24日
特開 2021-144146 フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 2021年 9月24日
特開 2021-144075 反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法 2021年 9月24日
特開 2021-141973 内視鏡用プロセッサ、内視鏡、内視鏡システム、情報処理方法、プログラム及び学習モデルの生成方法 2021年 9月24日
特開 2021-137152 コンタクトレンズパッケージおよびそのセット 2021年 9月16日
特開 2021-137150 内視鏡システム 2021年 9月16日
特開 2021-137183 内視鏡装置 2021年 9月16日
特開 2021-137355 電子内視鏡システム 2021年 9月16日
特開 2021-141134 冷却装置および光照射装置 2021年 9月16日
再表 2020-261986 薄膜付基板、多層反射膜付基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 2021年 9月13日
再表 2020-189213 内視鏡システム 2021年 9月13日
再表 2020-194785 内視鏡用プロセッサ、情報処理装置、内視鏡システム、プログラム及び情報処理方法 2021年 9月13日

128 件中 31-45 件を表示

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2021-148968 2021-148929 2021-148928 2021-144237 2021-144146 2021-144075 2021-141973 2021-137152 2021-137150 2021-137183 2021-137355 2021-141134 2020-261986 2020-189213 2020-194785

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