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HOYA株式会社

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 ■ 2026年 出願公開件数ランキング    第590位 40件 (下降2025年:第487位 60件)

 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第386位 57件 (下降2025年:第301位 94件)

(ランキング更新日:2026年11月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-123929 スピンコート装置 2026年 7月31日
特開 2026-114948 光学ガラスおよび光学素子 2026年 7月 8日
特開 2026-114914 カルコゲナイドガラスおよび光学素子 2026年 7月 8日
特開 2026-105040 マスクブランク用基板、多層反射膜付基板、マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 2026年 6月25日
特開 2026-104860 表示装置の製造方法 2026年 6月25日
特開 2026-97893 マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法 2026年 6月16日
特開 2026-92062 光学ガラスおよび光学素子 2026年 6月 4日
特開 2026-91624 内視鏡システム、プログラム及び血流情報の出力方法 2026年 6月 4日
特開 2026-86610 マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 2026年 5月26日
特開 2026-83441 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 2026年 5月19日
特開 2026-83274 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 2026年 5月19日
特開 2026-82515 積層体、インプリントモールド、光学素子および電子デバイス 2026年 5月19日
特開 2026-82015 電源装置 2026年 5月19日
特開 2026-81114 位相シフトマスク、および、表示装置の製造方法 2026年 5月18日
特開 2026-74210 光照射装置 2026年 5月 1日

44 件中 16-30 件を表示

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2026-123929 2026-114948 2026-114914 2026-105040 2026-104860 2026-97893 2026-92062 2026-91624 2026-86610 2026-83441 2026-83274 2026-82515 2026-82015 2026-81114 2026-74210

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