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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第34895位 0件
(2012年:第3467位 5件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2459位 8件
(2012年:第1326位 20件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5374006 | 基板製造方法及び該方法によって得られた基板 | 2013年12月25日 | |
特許 5324803 | 基板、特に光学、電子工学または電子光学用基板の製造方法、およびこの製造方法により得られる基板 | 2013年10月23日 | |
特許 5313217 | SeOI上の疑似インバータ回路 | 2013年10月 9日 | |
特許 5244315 | 注入又は共注入後のパルスによる薄膜層の自立転写方法 | 2013年 7月24日 | 共同出願 |
特許 5231555 | 層転写により構造を製造する方法 | 2013年 7月10日 | |
特許 5231460 | パターニングされた薄いSOI | 2013年 7月10日 | |
特許 5142528 | 共注入後の薄膜層のカタストロフィ的転写方法 | 2013年 2月13日 | 共同出願 |
特許 5111730 | 半導体ウエハのアニール方法 | 2013年 1月 9日 |
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5374006 5324803 5313217 5244315 5231555 5231460 5142528 5111730
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10月21日(火) - 東京 港区
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
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