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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第31873位 0件 (2013年:第34895位 0件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第3438位 5件 (2013年:第2459位 8件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5518911 | 半導体材料製の多層構造を製造するための方法 | 2014年 6月11日 | 共同出願 |
特許 5518717 | 光束によるウェハの加熱方法 | 2014年 6月11日 | |
特許 5461593 | 基板製造方法及び該方法によって得られた基板 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5420569 | 安定した酸化物結合層を有する複合構造の製造方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5420517 | 縦型バイポーラインジェクタを有するDRAMメモリセル | 2014年 2月19日 |
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5518911 5518717 5461593 5420569 5420517
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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12月1日(日) -
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