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北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司

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 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第1350位 11件 (下降2025年:第943位 22件)

(ランキング更新日:2026年10月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2026-534249 シリコン含有有機誘電体層のエッチング方法及び半導体プロセス装置 2026年10月14日
特表 2026-533681 半導体プロセスチャンバおよび半導体プロセス装置 2026年10月 7日
特表 2026-528305 温度制御装置、温度制御方法および半導体プロセス装置 2026年 8月20日
特表 2026-527725 半導体プロセスチャンバ及び半導体プロセス機器 2026年 8月17日
特表 2026-527381 ウェハ上のフォトレジストの除去方法及び半導体プロセス装置 2026年 8月13日
特表 2026-526518 ガス分配装置及び半導体加工機器 2026年 8月 7日
特表 2026-526507 ドア本体駆動機構、プロセスチャンバ及び半導体プロセス装置 2026年 8月 7日
特表 2026-526506 コイル、コイルアセンブリ、コイル装置及び半導体プロセス装置 2026年 8月 7日
特表 2026-526505 イオンエネルギー制御システム及び制御方法 2026年 8月 7日
特表 2026-526489 半導体プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法 2026年 8月 7日
特表 2026-526247 載置装置及び半導体プロセス装置 2026年 8月 6日
特表 2026-525559 コイルコネクタ、電極コイル接続構造及び半導体プロセス装置 2026年 7月31日
特表 2026-523264 液体材料気化システム 2026年 7月13日
特表 2026-522962 プロセスチャンバの清浄度検出方法及びプロセスチャンバ 2026年 7月 9日
特表 2026-522284 プロセスチャンバ、半導体プロセス機器及び薄膜堆積方法 2026年 7月 7日

27 件中 1-15 件を表示

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2026-534249 2026-533681 2026-528305 2026-527725 2026-527381 2026-526518 2026-526507 2026-526506 2026-526505 2026-526489 2026-526247 2026-525559 2026-523264 2026-522962 2026-522284

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