特許ランキング - 出願人詳細情報 -

北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司

※ ログインすれば出願人(北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第1272位　18件（2023年：第979位　27件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第909位　25件（2023年：第1353位　15件）

（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-547207	半導体プロセス機器及びその載置装置	2024年12月26日
特表 2024-543054	静電パレット及びベース	2024年11月19日
特表 2024-542518	配管温度制御装置及び配管温度制御方法	2024年11月15日
特表 2024-541870	プラズマ半導体処理用のセグメント化されたフォーカスリングおよびセグメント化されたフォーカスリングを使用するように構成された処理ツール	2024年11月13日
特表 2024-540986	半導体プロセスレシピの取得方法、システム及び半導体プロセス装置	2024年11月 6日
特表 2024-538506	複数の無線周波数（ＲＦ）電極を含む基板支持体	2024年10月23日
特表 2024-537016	半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造	2024年10月10日
特表 2024-537313	プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法	2024年10月10日
特表 2024-535240	プラズマ半導体プロセス用の多層フォーカスリング	2024年 9月30日
特表 2024-532592	静電チャック及び半導体加工装置	2024年 9月 5日
特表 2024-531973	半導体プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法	2024年 9月 3日
特表 2024-523629	半導体プロセス装置及びその給気手段	2024年 6月28日
特表 2024-520592	プラズマを生成するためのコイル手段及び半導体プロセス装置	2024年 5月24日
特表 2024-519121	半導体プロセス装置及びそのガス混合供給手段	2024年 5月 8日
特表 2024-518183	プラズマを生成するためのコイル構造及び半導体プロセス装置	2024年 4月25日

18 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-547207 2024-543054 2024-542518 2024-541870 2024-540986 2024-538506 2024-537016 2024-537313 2024-535240 2024-532592 2024-531973 2024-523629 2024-520592 2024-519121 2024-518183

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数