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北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司

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北京北方微▲電▼子基地▲設▼▲備▼工▲芸▼研究中心有限▲責▼任公司の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-547207	半導体プロセス機器及びその載置装置	2024年12月26日
特表 2024-543054	静電パレット及びベース	2024年11月19日
特表 2024-542518	配管温度制御装置及び配管温度制御方法	2024年11月15日
特表 2024-541870	プラズマ半導体処理用のセグメント化されたフォーカスリングおよびセグメント化されたフォーカスリングを使用するように構成された処理ツール	2024年11月13日
特表 2024-540986	半導体プロセスレシピの取得方法、システム及び半導体プロセス装置	2024年11月 6日
特表 2024-538506	複数の無線周波数（ＲＦ）電極を含む基板支持体	2024年10月23日
特表 2024-537313	プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法	2024年10月10日
特表 2024-537016	半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造	2024年10月10日
特表 2024-535240	プラズマ半導体プロセス用の多層フォーカスリング	2024年 9月30日
特表 2024-532592	静電チャック及び半導体加工装置	2024年 9月 5日
特表 2024-531973	半導体プロセスチャンバ、半導体プロセス装置及び半導体プロセス方法	2024年 9月 3日
特表 2024-523629	半導体プロセス装置及びその給気手段	2024年 6月28日
特表 2024-520592	プラズマを生成するためのコイル手段及び半導体プロセス装置	2024年 5月24日
特表 2024-519121	半導体プロセス装置及びそのガス混合供給手段	2024年 5月 8日
特表 2024-518183	プラズマを生成するためのコイル構造及び半導体プロセス装置	2024年 4月25日

18 件中 1-15 件を表示

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2024-547207 2024-543054 2024-542518 2024-541870 2024-540986 2024-538506 2024-537313 2024-537016 2024-535240 2024-532592 2024-531973 2024-523629 2024-520592 2024-519121 2024-518183

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