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ディーエヌエフ カンパニー リミテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第6022位 3件
（
2021年：第12881位 1件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第3719位 4件
（
2021年：第2482位 6件）
（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ディーエヌエフ カンパニー リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7185394 | スズ化合物、その合成方法、ＡＬＤ用スズ前駆体化合物、及びスズ含有物質膜の形成方法 | 2022年12月 7日 | |
| 特許 7171916 | モリブデン含有薄膜の製造方法およびこれにより製造されたモリブデン含有薄膜 | 2022年11月15日 | |
| 特許 7140476 | アルミニウム化合物を利用した薄膜形成方法、並びに集積回路素子の製造方法 | 2022年 9月21日 | |
| 特許 7045360 | プラズマ原子層蒸着法を用いたシリコン窒化薄膜の製造方法 | 2022年 3月31日 | |
| 特許 7025447 | ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 | 2022年 2月24日 | |
| 特許 7025448 | ジシリルアミン化合物、その製造方法、およびそれを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物 | 2022年 2月24日 |
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7185394 7171916 7140476 7045360 7025447 7025448
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