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ディーエヌエフ カンパニー リミテッド
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第12881位 1件
（
2020年：第3088位 6件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2482位 6件
（
2020年：第24204位 0件）
（ランキング更新日：2026年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ディーエヌエフ カンパニー リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6986633 | シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6979032 | 遷移金属化合物、その製造方法およびこれを含む遷移金属含有薄膜蒸着用組成物 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6923994 | シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6900503 | シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6882337 | 防眩ガラスおよびその製造方法 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6876145 | ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法 | 2021年 5月26日 |
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6986633 6979032 6923994 6900503 6882337 6876145
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