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ディーエヌエフ カンパニー リミテッド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第5373位 3件
（
2017年：第5643位 3件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第3972位 3件
（2017年：第8798位 1件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ディーエヌエフ カンパニー リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6415665 | 新規なトリシリルアミン誘導体およびその製造方法、並びにそれを用いたシリコン含有薄膜 | 2018年10月31日 | |
| 特許 6343032 | 新規なアミノシリルアミン化合物、および原子層蒸着法を用いたＳｉ‐Ｎ結合を含む絶縁膜の製造方法 | 2018年 6月13日 | |
| 特許 6267800 | 新規なシクロジシラザン誘導体およびその製造方法、並びにそれを用いたシリコン含有薄膜 | 2018年 1月24日 |
3 件中 1-3 件を表示
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6415665 6343032 6267800
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