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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1605位 15件 (2011年:第7099位 2件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1614位 15件 (2011年:第1799位 12件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2012-532417 | イオンソースのイオン組成を選択的に制御するシステムおよび方法。 | 2012年12月13日 | |
特表 2012-525709 | 低温炭素及び/又は分子炭素注入された歪み薄膜上の隆起型ソース/ドレインの形成 | 2012年10月22日 | |
特表 2012-525011 | 非平面な基板表面を有する基板を処理する方法 | 2012年10月18日 | |
特表 2012-524417 | 基板と静電クランプとの間の電荷の除去 | 2012年10月11日 | |
特表 2012-523708 | 基板処理技術 | 2012年10月 4日 | |
特表 2012-523122 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月27日 | |
特表 2012-523123 | プラズマシース工学を利用した、向上したエッチングおよび堆積プロフィール制御 | 2012年 9月27日 | |
特表 2012-523120 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-178571 | 安定かつ反復可能なプラズマイオン注入方法及び装置 | 2012年 9月13日 | |
特表 2012-513677 | プラズマイオン処理の均一性監視 | 2012年 6月14日 | |
特開 2012-109570 | プラズマドーピングシステムのためのドーズ量モニター | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-507871 | 暗電流の改善および画像センサおよび光起電接合の欠陥の低減 | 2012年 3月29日 | |
特表 2012-501524 | ワイドリボンイオンビーム生成のための高密度ヘリコンプラズマソース | 2012年 1月19日 | |
特表 2012-500172 | シートの厚み制御 | 2012年 1月 5日 | |
特表 2012-500132 | 基板の改良されたへき開 | 2012年 1月 5日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2012-532417 2012-525709 2012-525011 2012-524417 2012-523708 2012-523122 2012-523123 2012-523120 2012-178571 2012-513677 2012-109570 2012-507871 2012-501524 2012-500172 2012-500132
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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