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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

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  2012年 出願公開件数ランキング    第1605位 15件 上昇2011年:第7099位 2件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第1614位 15件 上昇2011年:第1799位 12件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2012-532417 イオンソースのイオン組成を選択的に制御するシステムおよび方法。 2012年12月13日
特表 2012-525709 低温炭素及び/又は分子炭素注入された歪み薄膜上の隆起型ソース/ドレインの形成 2012年10月22日
特表 2012-525011 非平面な基板表面を有する基板を処理する方法 2012年10月18日
特表 2012-524417 基板と静電クランプとの間の電荷の除去 2012年10月11日
特表 2012-523708 基板処理技術 2012年10月 4日
特表 2012-523122 プラズマ処理装置 2012年 9月27日
特表 2012-523123 プラズマシース工学を利用した、向上したエッチングおよび堆積プロフィール制御 2012年 9月27日
特表 2012-523120 プラズマ処理装置 2012年 9月27日
特開 2012-178571 安定かつ反復可能なプラズマイオン注入方法及び装置 2012年 9月13日
特表 2012-513677 プラズマイオン処理の均一性監視 2012年 6月14日
特開 2012-109570 プラズマドーピングシステムのためのドーズ量モニター 2012年 6月 7日
特表 2012-507871 暗電流の改善および画像センサおよび光起電接合の欠陥の低減 2012年 3月29日
特表 2012-501524 ワイドリボンイオンビーム生成のための高密度ヘリコンプラズマソース 2012年 1月19日
特表 2012-500172 シートの厚み制御 2012年 1月 5日
特表 2012-500132 基板の改良されたへき開 2012年 1月 5日

15 件中 1-15 件を表示

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2012-532417 2012-525709 2012-525011 2012-524417 2012-523708 2012-523122 2012-523123 2012-523120 2012-178571 2012-513677 2012-109570 2012-507871 2012-501524 2012-500172 2012-500132

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