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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3542位 5件 (2015年:第5202位 3件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2385位 7件 (2015年:第1611位 11件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-528677 | 基板処理システム、イオン注入システム、およびビームラインイオン注入システム | 2016年 9月15日 | |
特表 2016-521913 | イオン装置で利用する磁石およびイオン装置 | 2016年 7月25日 | |
特表 2016-511524 | 回転プラテン装置および回転ユニオン | 2016年 4月14日 | |
特表 2016-502035 | 受動的分離アセンブリ及びガス輸送システム | 2016年 1月21日 | |
特表 2016-500898 | イオン注入機を保守する方法 | 2016年 1月14日 |
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2016-528677 2016-521913 2016-511524 2016-502035 2016-500898
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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12月1日(日) -
11月25日(月) -
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