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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2013-546165	レジストフィーチャの表面粗度を低減する方法、パターニングレジストフィーチャの粗度を修正する方法、および、レジストフィーチャを処理するシステム	2013年12月26日
特表 2013-541839	ビームブロッカを用いたワークピースへのパターン注入	2013年11月14日
特表 2013-541845	多段階イオン注入を利用してパターニングされたフォトレジストを修正する方法およびシステム	2013年11月14日
特表 2013-536561	スパッタリングターゲット供給システム	2013年 9月19日
特表 2013-535074	基板プラズマ処理技術	2013年 9月 9日
特表 2013-527970	高密度ワイドリボンイオンビーム生成のための小型プラズマソース	2013年 7月 4日
特表 2013-525980	分子イオンの生成	2013年 6月20日
特開 2013-93327	リボンビームの均一性向上のための方法	2013年 5月16日
特表 2013-516071	プラズマシース変調によるワークピースのパターニング	2013年 5月 9日
特表 2013-511131	イオンビームを操作するシステムおよび方法	2013年 3月28日
特表 2013-510432	太陽電池製造用の自己位置合わせマスキング	2013年 3月21日
特表 2013-508949	表面が平坦でない基板を処理する方法	2013年 3月 7日
特表 2013-502053	最適化された低温ハロー注入又はポケット注入	2013年 1月17日
特表 2013-502024	パターンド磁気ビットデータ記録媒体およびその製造方法	2013年 1月17日
特表 2013-501360	ファラデープローブを利用したマスクの状態のモニタリング	2013年 1月10日

15 件中 1-15 件を表示

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2013-546165 2013-541839 2013-541845 2013-536561 2013-535074 2013-527970 2013-525980 2013-93327 2013-516071 2013-511131 2013-510432 2013-508949 2013-502053 2013-502024 2013-501360

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