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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1715位 15件 (2012年:第1605位 15件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1509位 16件 (2012年:第1614位 15件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-546165 | レジストフィーチャの表面粗度を低減する方法、パターニングレジストフィーチャの粗度を修正する方法、および、レジストフィーチャを処理するシステム | 2013年12月26日 | |
特表 2013-541839 | ビームブロッカを用いたワークピースへのパターン注入 | 2013年11月14日 | |
特表 2013-541845 | 多段階イオン注入を利用してパターニングされたフォトレジストを修正する方法およびシステム | 2013年11月14日 | |
特表 2013-536561 | スパッタリングターゲット供給システム | 2013年 9月19日 | |
特表 2013-535074 | 基板プラズマ処理技術 | 2013年 9月 9日 | |
特表 2013-527970 | 高密度ワイドリボンイオンビーム生成のための小型プラズマソース | 2013年 7月 4日 | |
特表 2013-525980 | 分子イオンの生成 | 2013年 6月20日 | |
特開 2013-93327 | リボンビームの均一性向上のための方法 | 2013年 5月16日 | |
特表 2013-516071 | プラズマシース変調によるワークピースのパターニング | 2013年 5月 9日 | |
特表 2013-511131 | イオンビームを操作するシステムおよび方法 | 2013年 3月28日 | |
特表 2013-510432 | 太陽電池製造用の自己位置合わせマスキング | 2013年 3月21日 | |
特表 2013-508949 | 表面が平坦でない基板を処理する方法 | 2013年 3月 7日 | |
特表 2013-502053 | 最適化された低温ハロー注入又はポケット注入 | 2013年 1月17日 | |
特表 2013-502024 | パターンド磁気ビットデータ記録媒体およびその製造方法 | 2013年 1月17日 | |
特表 2013-501360 | ファラデープローブを利用したマスクの状態のモニタリング | 2013年 1月10日 |
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2013-546165 2013-541839 2013-541845 2013-536561 2013-535074 2013-527970 2013-525980 2013-93327 2013-516071 2013-511131 2013-510432 2013-508949 2013-502053 2013-502024 2013-501360
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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