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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1205位 21件
(2020年:第12781位 1件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第9350位 1件
(2020年:第4019位 3件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-535572 | イオン注入システムにおける発泡体 | 2021年12月16日 | |
特表 2021-534557 | バンチ化されたイオンビームを生成するための新規な装置及び技術 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-532348 | グリッチを検出するためのシステム及び方法 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532397 | 回折光学素子の格子を最適に形成するためのシステム及び方法 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-531404 | 角度付きイオンを使用した、層の選択的堆積のための技術、システムおよび装置 | 2021年11月18日 | |
特表 2021-530736 | 回折光学素子の格子を最適に形成するためのシステム及び方法 | 2021年11月11日 | |
特開 2021-177479 | バンチ化されたイオンビームを生成するための装置及び技術 | 2021年11月11日 | |
特開 2021-170112 | 様々なグレーチングを有する回折光学素子を形成するためのシステムおよび方法 | 2021年10月28日 | |
特表 2021-528817 | インライン表面エンジニアリングソースを使用するシステム及び方法 | 2021年10月21日 | |
特表 2021-525446 | コンパクトな高エネルギーイオン注入システム | 2021年 9月24日 | |
特表 2021-524903 | 保持力を加えるOリングを使用するためのシステム | 2021年 9月16日 | |
特表 2021-520631 | プロセスチャンバウインドウを冷却するためのシステム及び装置 | 2021年 8月19日 | |
特表 2021-519494 | 性能改善された抽出セット | 2021年 8月10日 | |
特表 2021-519507 | イオン注入のための箔シートアセンブリ | 2021年 8月10日 | |
特表 2021-516445 | 処理の均一性を改善するための基板ハローの配置 | 2021年 7月 1日 |
21 件中 1-15 件を表示
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2021-535572 2021-534557 2021-532348 2021-532397 2021-531404 2021-530736 2021-177479 2021-170112 2021-528817 2021-525446 2021-524903 2021-520631 2021-519494 2021-519507 2021-516445
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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