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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1715位 15件
（
2012年：第1605位 15件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1509位 16件
（
2012年：第1614位 15件）
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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5320644 | イオン注入システム、イオンを注入する方法、および、イオンビームから所望されない粒子を除去する方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5299278 | 低温イオン注入技術 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5285909 | イオンビームを調整する方法、システム、及びプログラム | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5280206 | 差動ポンピングを容易にする装置、プロセッサ可読担体およびその方法 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5276325 | イオン注入機の加速減速コラムの焦点効果低減 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5245182 | 誘電フィンを有する絶縁導体を備えるイオン注入装置およびイオン注入装置のロバスト性を改善する方法 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5215846 | イオンビーム角度広がりの制御技術 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5209489 | 寄生ビームレットがイオン注入に影響を及ぼすことを防ぐ技術 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5203221 | ２つの次元でイオンビーム角を測定する方法及び装置 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5196357 | デュアルポンプモードを有するイオン注入装置およびその方法 | 2013年 5月15日 | 共同出願 |
| 特許 5185137 | リボンビームの均一性向上のための装置、担体およびその方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5172668 | イオンビーム角度処理制御技術 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5149203 | 電磁石、イオン注入システム、イオン注入システム用のフィルタリングシステム、質量分析に用いる電磁石、および開口フレーム型電磁石の磁場を閉じ込める方法 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5135206 | プラズマ注入方法およびプラズマドーピング装置 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5129734 | 固定ビーム型イオン注入装置およびその方法 | 2013年 1月30日 |
16 件中 1-15 件を表示
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5320644 5299278 5285909 5280206 5276325 5245182 5215846 5209489 5203221 5196357 5185137 5172668 5149203 5135206 5129734
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