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日立化成株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第42位 952件 上昇2016年:第57位 653件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第80位 372件 下降2016年:第66位 432件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-218164 流体を分配する分配器 2017年12月14日
特開 2017-218426 イオン性化合物、有機エレクトロニクス材料、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロルミネセンス素子 2017年12月14日
特開 2017-218468 エポキシ樹脂組成物、成形材前駆体、成形材、及び成形材の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-218476 光硬化性樹脂組成物、これを用いた画像表示用装置、及び画像表示用装置の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-218477 曲面塗布用光硬化性樹脂組成物、画像表示装置及びその製造方法 2017年12月14日
特開 2017-218532 半導体用接着剤、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-219404 車両およびその電池状態検知システム 2017年12月14日
特開 2017-219405 車両およびその電池状態検知システム 2017年12月14日
特開 2017-220518 貫通スルーホールレス構造の高密度多層配線板 2017年12月14日
特開 2017-220519 半導体装置の製造方法 2017年12月14日
特開 2017-220588 研磨液、研磨液セット及び基体の研磨方法 2017年12月14日
特開 2017-220993 トリクル充電電源システム 2017年12月14日
特開 2017-221016 車両およびその電池状態検知システム 2017年12月14日
再表 2016-136753 銅含有粒子、導体形成組成物、導体の製造方法、導体及び装置 2017年12月 7日
再表 2016-140246 CMP用研磨液、及び、これを用いた研磨方法 2017年12月 7日

969 件中 31-45 件を表示

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2017-218164 2017-218426 2017-218468 2017-218476 2017-218477 2017-218532 2017-219404 2017-219405 2017-220518 2017-220519 2017-220588 2017-220993 2017-221016 2016-136753 2016-140246

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