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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第189位 226件
(2017年:第155位 345件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第232位 129件
(2017年:第189位 171件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6428527 | ピロロキノリンキノン結晶の製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6428622 | 過酸化水素製造に使用される作動溶液の再生方法、並びに再生した作動溶液を用いた過酸化水素の製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6431707 | 全固体電池用電極層および全固体電池 | 2018年11月28日 | |
特許 6431810 | 炭酸ジブチル合成用触媒及びその製造方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6424455 | 連続繊維強化熱可塑性樹脂の製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6424559 | エッチング用組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6424970 | ドリルビット及び孔形成方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6424992 | プリプレグ、積層板、金属箔張積層板、プリント配線板、及び多層プリント配線板 | 2018年11月21日 | |
特許 6425194 | ドリルビット及び孔形成方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6421755 | プリプレグ、金属箔張積層板及びプリント配線板 | 2018年11月14日 | |
特許 6421902 | 半導体基板に撥アルコール性を付与する表面処理方法 | 2018年11月14日 | |
特許 6418156 | インジウム、ガリウム、亜鉛、および酸素からなる酸化物(IGZO)の表面より銅を含む付着物を洗浄・除去する液体組成物、およびその液体組成物を用いたIGZO表面の洗浄方法、並びにその洗浄方法により洗浄される基板 | 2018年11月 7日 | |
特許 6418170 | (メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリル共重合体およびそれを含む感光性樹脂組成物 | 2018年11月 7日 | |
特許 6420903 | エッチング液組成物、多層膜のエッチング方法、並びに表示装置の製造方法 | 2018年11月 7日 | |
特許 6413770 | 二軸延伸積層フィルム | 2018年10月31日 |
135 件中 16-30 件を表示
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6428527 6428622 6431707 6431810 6424455 6424559 6424970 6424992 6425194 6421755 6421902 6418156 6418170 6420903 6413770
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