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三菱瓦斯化学株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第265位 153件
（
2019年：第226位 201件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第208位 141件
（
2019年：第214位 128件）
（ランキング更新日：2025年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6747432 | ウェハを再生するための炭素含有シリコン酸化物を含む材料の洗浄液および洗浄方法 | 2020年 8月26日 | |
| 特許 6747630 | 樹脂組成物、成形品、フィルムおよび樹脂組成物の製造方法 | 2020年 8月26日 | |
| 特許 6741190 | 樹脂組成物、成形品、フィルムおよび樹脂組成物の製造方法 | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6737413 | 非晶性ポリアミド樹脂の製造方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739337 | 光学フィルムおよびこれを用いた光学積層体 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739753 | シクロヘキサンジアミンの異性化方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739754 | ジアミノジシクロヘキシルメタンの異性化方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739755 | １，３，３−トリメチル−１−（アミノメチル）アミノシクロヘキサンの異性化方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739756 | ビス（アミノメチル）シクロヘキサンの異性化方法 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739757 | 感放射線性組成物 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739758 | 細胞培養用基材およびそれを用いた細胞培養方法、細胞培養器、並びに基材としての使用 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6737263 | 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6731190 | 樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、レジンシート、積層板、及びプリント配線板 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6731350 | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形体 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6732215 | 樹脂組成物、プリプレグ、レジンシート、金属箔張積層板及びプリント配線板 | 2020年 7月29日 |
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6747432 6747630 6741190 6737413 6739337 6739753 6739754 6739755 6739756 6739757 6739758 6737263 6731190 6731350 6732215
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