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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第521位 66件
（
2013年：第306位 142件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第203位 208件
（2013年：第137位 291件）
（ランキング更新日：2025年10月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5646580 | リソグラフィ方法及び装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646632 | 光学装置及び反射要素を方向付ける方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5643779 | ＥＵＶプラズマ源ターゲット供給システム | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642140 | 基板ホルダ、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5638550 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639016 | リソグラフィ装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639023 | 空間光変調器の較正 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639605 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5635847 | アクチュエータ、位置決めシステム、およびリソグラフィ装置 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5634490 | サポート、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635969 | 液浸リソグラフィ装置およびクリーニング方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5634942 | テーブルおよびリソグラフィ方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5632259 | マスク・パターンを生成するためのリソグラフィ装置、方法、及びコンピュータ・プログラマ製品並びにそれらを使用するデバイス製造方法 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5629691 | 高速自由形式ソース・マスク同時最適化方法 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5632894 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2014年11月26日 |
208 件中 1-15 件を表示
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5646580 5646632 5643779 5642140 5638550 5639016 5639023 5639605 5635847 5634490 5635969 5634942 5632259 5629691 5632894
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