※ ログインすれば出願人(JSR株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件
(2013年:第132位 382件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件
(2013年:第98位 420件)
(ランキング更新日:2025年8月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-211541 | 微細パターンの形成方法 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212179 | 保護膜形成用組成物、保護膜形成方法、保護膜及び保護膜除去方法 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212133 | リチウムイオン二次電池 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212028 | 蓄電デバイス用電極および蓄電デバイス | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212132 | リチウムイオン二次電池 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-210865 | マイクロ流路形成用放射線硬化性樹脂組成物およびマイクロ流路 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-211525 | 液晶配向剤 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212030 | 蓄電デバイス用電極およびその製造方法、ならびに蓄電デバイス | 2014年11月13日 | |
特開 2014-212122 | 電気化学デバイス及びバインダー組成物 | 2014年11月13日 | |
特開 2014-209432 | 保護膜を作製するための組成物および保護膜、ならびに蓄電デバイス | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-209503 | 電気化学デバイス電極バインダー用組成物 | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-209333 | 積層体およびインデックスマッチング層形成用組成物 | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-209264 | ダマシンプロセス用絶縁パターン形成材料 | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-206720 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び化合物 | 2014年10月30日 | |
特開 2014-205746 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 | 2014年10月30日 |
269 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2014-211541 2014-212179 2014-212133 2014-212028 2014-212132 2014-210865 2014-211525 2014-212030 2014-212122 2014-209432 2014-209503 2014-209333 2014-209264 2014-206720 2014-205746
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。JSR株式会社の知財の動向チェックに便利です。
8月5日(火) - 大阪 大阪市
8月5日(火) -
8月5日(火) -
8月6日(水) -
8月6日(水) -
8月8日(金) -
8月5日(火) - 大阪 大阪市
〒101-0032 東京都千代田区岩本町3-2-10 SN岩本町ビル9階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都港区新橋6-20-4 新橋パインビル5階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング