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JSR株式会社

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 ■ 2024年 出願公開件数ランキング    第477位 64件 (下降2023年:第458位 69件)

 ■ 2024年 特許取得件数ランキング    第410位 70件 (下降2023年:第340位 93件)

(ランキング更新日:2026年10月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-177294 レジストパターンの形成方法及び感放射線性樹脂組成物 2024年12月19日
特開 2024-177150 感放射線性組成物、硬化物、表示装置、撮像装置及び硬化物の製造方法 2024年12月19日
特開 2024-175683 感放射線性組成物、硬化物及びその製造方法、表示装置並びに撮像装置 2024年12月18日
特開 2024-173693 組成物、光学フィルム、層、光学フィルター、光学素子、固体撮像装置、およびカメラモジュール 2024年12月12日
特開 2024-173228 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 2024年12月12日
特開 2024-171825 情報処理装置、プログラム、及びシステム 2024年12月12日
特開 2024-164403 電子装置及び電子装置の製造方法 2024年11月27日
特開 2024-164805 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 2024年11月27日
特開 2024-162187 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 2024年11月21日
特開 2024-160239 感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び単量体化合物の製造方法 2024年11月13日
特開 2024-155780 組成物および光学部材 2024年10月31日
特開 2024-155568 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 2024年10月31日
特開 2024-154780 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 2024年10月31日
特開 2024-151992 蒸着膜を有する基材の製造方法、多層蒸着膜を有する基材の製造方法および蒸着装置 2024年10月25日
特開 2024-152696 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、液晶表示装置並びに有機EL表示装置 2024年10月25日

65 件中 1-15 件を表示

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2024-177294 2024-177150 2024-175683 2024-173693 2024-173228 2024-171825 2024-164403 2024-164805 2024-162187 2024-160239 2024-155780 2024-155568 2024-154780 2024-151992 2024-152696

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