特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＳＲ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＳＲ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第264位　155件（2019年：第288位　139件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第225位　128件（2019年：第203位　135件）

（ランキング更新日：2026年8月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

ＪＳＲ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2019-131953	パターン形成方法及び感放射線性組成物	2020年12月24日
特開 2020-203984	感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物	2020年12月24日
特開 2020-204765	感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法	2020年12月24日
再表 2019-98109	レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物	2020年12月17日
再表 2019-111952	親水化色素含有粒子、色素含有粒子、親水化色素含有粒子の製造方法および生体内を観察する方法	2020年12月17日
再表 2019-116843	カバー部材および認証機能付き電子デバイス	2020年12月17日
再表 2019-139043	パターン形成方法	2020年12月17日
再表 2019-202884	液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、重合体及び化合物	2020年12月17日
特開 2020-198783	アフィニティークロマトグラフィーリガンド	2020年12月17日
特開 2020-201389	感放射線性組成物、重合体及びパターン形成方法	2020年12月17日
特開 2020-201480	感放射線性組成物、パターン形成方法及び化合物	2020年12月17日
特開 2020-202206	化学機械研磨用水系分散体及びその製造方法	2020年12月17日
再表 2019-88232	情報処理装置、情報処理システム、インソールの製造システム、インソールの製造方法、情報処理方法及びプログラム	2020年12月10日
特開 2020-196771	組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法	2020年12月10日
特開 2020-196803	変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、重合体組成物、架橋体及びタイヤ	2020年12月10日

157 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-131953 2020-203984 2020-204765 2019-98109 2019-111952 2019-116843 2019-139043 2019-202884 2020-198783 2020-201389 2020-201480 2020-202206 2019-88232 2020-196771 2020-196803

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＳＲ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数