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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第264位 155件 (2019年:第288位 139件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第225位 128件 (2019年:第203位 135件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2019-131953 | パターン形成方法及び感放射線性組成物 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-203984 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-204765 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2020年12月24日 | |
再表 2019-98109 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-111952 | 親水化色素含有粒子、色素含有粒子、親水化色素含有粒子の製造方法および生体内を観察する方法 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-116843 | カバー部材および認証機能付き電子デバイス | 2020年12月17日 | |
再表 2019-139043 | パターン形成方法 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-202884 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、重合体及び化合物 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-198783 | アフィニティークロマトグラフィーリガンド | 2020年12月17日 | |
特開 2020-201389 | 感放射線性組成物、重合体及びパターン形成方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-201480 | 感放射線性組成物、パターン形成方法及び化合物 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-202206 | 化学機械研磨用水系分散体及びその製造方法 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-88232 | 情報処理装置、情報処理システム、インソールの製造システム、インソールの製造方法、情報処理方法及びプログラム | 2020年12月10日 | |
特開 2020-196771 | 組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-196803 | 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、重合体組成物、架橋体及びタイヤ | 2020年12月10日 |
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2019-131953 2020-203984 2020-204765 2019-98109 2019-111952 2019-116843 2019-139043 2019-202884 2020-198783 2020-201389 2020-201480 2020-202206 2019-88232 2020-196771 2020-196803
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