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JSR株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第170位 269件 下降2013年:第132位 382件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第113位 371件 下降2013年:第98位 420件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-201514 炭素材料およびその製造方法 2014年10月27日 共同出願
特開 2014-199360 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及びその製造方法 2014年10月23日
特開 2014-199919 ゲート絶縁膜、組成物、硬化膜、半導体素子、半導体素子の製造方法および表示装置 2014年10月23日
特開 2014-197143 導電性パターン形成方法、樹脂組成物、導電性パターンおよび電子回路 2014年10月16日
特開 2014-196453 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物、及びそれを光硬化させて得られる光造形物 2014年10月16日 共同出願
特開 2014-196232 窒化炭素前駆体組成物、窒化炭素の製造方法及び電極材料 2014年10月16日
特開 2014-196462 硬化性組成物、硬化物および光半導体装置 2014年10月16日
特開 2014-194007 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 2014年10月 9日
特開 2014-193969 熱可塑性エラストマー組成物 2014年10月 9日
特開 2014-194070 金属膜形成方法および前記方法に用いる導電性インク 2014年10月 9日
特開 2014-189657 感放射線性樹脂組成物 2014年10月 6日
特開 2014-189888 銀ナノワイヤーの製造方法、該方法で得られた銀ナノワイヤー及び該銀ナノワイヤーを含有するコーティング剤 2014年10月 6日
特開 2014-188421 セシウムイオン除去材料及びセシウムイオン除去材料の製造方法 2014年10月 6日 共同出願
特開 2014-191121 酸拡散制御剤、フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び化合物の製造方法 2014年10月 6日
特開 2014-192399 パターン形成方法及びパターン形成用組成物 2014年10月 6日

269 件中 46-60 件を表示

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2014-201514 2014-199360 2014-199919 2014-197143 2014-196453 2014-196232 2014-196462 2014-194007 2014-193969 2014-194070 2014-189657 2014-189888 2014-188421 2014-191121 2014-192399

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