ＪＳＲ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第115位 382件
（
2010年：第88位 544件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第91位 368件
（
2010年：第138位 225件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-222216 | 回路接続部材およびその製造方法 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-219577 | 新規化合物および新規色素 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-221365 | 硬化性組成物及び光学部材 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-222771 | 蓄電デバイス、デバイスモジュール、及び製造方法 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-215428 | 感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215385 | 感放射線性組成物 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215503 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215430 | 感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215433 | 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215597 | 感放射線性組成物、絶縁膜の形成方法、絶縁膜及び固体撮像素子 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215405 | 液浸用上層膜形成用組成物 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-213921 | シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-216296 | 固体高分子電解質膜およびその製造方法、液状組成物 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215429 | 感放射線性樹脂組成物及びそれに用いる重合体 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-211179 | 光電変換素子およびその製造方法、並びに、光導波路形成用組成物およびその硬化物 | 2011年10月20日 |
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2011-222216 2011-219577 2011-221365 2011-222771 2011-215428 2011-215385 2011-215503 2011-215430 2011-215433 2011-215597 2011-215405 2011-213921 2011-216296 2011-215429 2011-211179
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