特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＳＲ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＳＲ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第170位　269件（2013年：第132位　382件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第113位　371件（2013年：第98位　420件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ＪＳＲ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-191121	酸拡散制御剤、フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び化合物の製造方法	2014年10月 6日
特開 2014-185309	重合体の製造方法および重合体	2014年10月 2日	共同出願
特開 2014-186309	ネガ型感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子	2014年10月 2日
特開 2014-186301	液晶表示素子用組成物、並びに液晶表示素子及びその製造方法	2014年10月 2日
特開 2014-186300	感光性組成物、硬化膜およびその製造方法ならびに電子部品	2014年10月 2日
特開 2014-178676	着色組成物、着色硬化膜、表示素子及び固体撮像素子	2014年 9月25日
特開 2014-178378	光配向剤、液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子	2014年 9月25日
特開 2014-178666	液晶表示素子及びその製造方法	2014年 9月25日
特開 2014-177643	ブロック共重合体	2014年 9月25日
特開 2014-174235	感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び表示素子	2014年 9月22日
特開 2014-173041	導電性高分子用ドーパント、導電性高分子製造用組成物および導電性高分子膜	2014年 9月22日
特開 2014-174406	感放射線性樹脂組成物、硬化膜、発光表示素子および発光層の形成方法	2014年 9月22日
特開 2014-170080	感放射線性樹脂組成物、絶縁膜および有機ＥＬ素子	2014年 9月18日
特開 2014-169261	スチレン誘導体化合物および重合体	2014年 9月18日
特開 2014-159587	化学機械研磨用水系分散体および該化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット、ならびに化学機械研磨方法	2014年 9月 4日

269 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-191121 2014-185309 2014-186309 2014-186301 2014-186300 2014-178676 2014-178378 2014-178666 2014-177643 2014-174235 2014-173041 2014-174406 2014-170080 2014-169261 2014-159587

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＳＲ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数