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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第115位 382件
(2010年:第88位 544件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第91位 368件
(2010年:第138位 225件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-209647 | 上層膜形成組成物及びフォトレジストパターン形成方法 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-209667 | 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-205062 | 有機EL発光体配向制御用組成物、有機EL発光体配向制御膜、有機EL素子及びその製造方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-201810 | 感放射線性組成物及びスルホンイミド化合物 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203560 | 反射防止用積層体およびその製造方法、硬化性組成物 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203232 | マイクロアレイ用基板の製造方法、感放射線性組成物、マイクロアレイ用基板の隔壁、バイオチップの製造方法及びバイオチップ | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203714 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203562 | 感放射線性樹脂組成物、表示素子用スペーサー、保護膜、層間絶縁膜ならびにそれらの形成方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203656 | 感放射線性樹脂組成物及び重合体 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-197693 | 液浸露光用感放射線性樹脂組成物 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-198846 | 絶縁性遮光膜形成用感放射線性組成物、絶縁性遮光膜の形成方法、絶縁性遮光膜及び固体撮像素子 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-197150 | 感放射線性組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-195739 | 半導体レジスト用重合体の重合方法及び半導体レジスト用重合体 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-195623 | 光学用熱可塑性樹脂組成物および成形品 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-197142 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法 | 2011年10月 6日 |
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2011-209647 2011-209667 2011-205062 2011-201810 2011-203560 2011-203232 2011-203714 2011-203562 2011-203656 2011-197693 2011-198846 2011-197150 2011-195739 2011-195623 2011-197142
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