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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件
(2013年:第132位 382件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件
(2013年:第98位 420件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2012-128194 | ゴム組成物およびその製造方法並びにタイヤ | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-134763 | 感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-132326 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、重合体及び化合物 | 2014年 7月17日 | |
特開 2014-130366 | 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-130281 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-129479 | ブロック共重合体 | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-130332 | 感光性組成物、着色剤分散液、光フィルター及び光センサー | 2014年 7月10日 | |
特開 2014-130272 | 液晶配向膜の管理方法および液晶表示素子の製造方法 | 2014年 7月10日 | |
再表 2012-111697 | ゴム組成物およびその製造方法並びにタイヤ | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-111640 | ゴム組成物およびその製造方法並びにタイヤ | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-117949 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成組成物及びパターン形成方法 | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-117948 | レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法及びレジスト下層膜 | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-114963 | ネガ型パターン形成方法及びフォトレジスト組成物 | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-117910 | 蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、および蓄電デバイス | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-111472 | 蓄電デバイス用電極、電極用スラリー、電極用バインダー組成物、および蓄電デバイス | 2014年 7月 3日 |
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2012-128194 2014-134763 2014-132326 2014-130366 2014-130281 2014-129479 2014-130332 2014-130272 2012-111697 2012-111640 2012-117949 2012-117948 2012-114963 2012-117910 2012-111472
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