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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
(2012年:第153位 299件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
(2012年:第94位 428件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5262651 | ポジ型レジストパターン形成方法及びポジ型レジストパターン形成用現像液 | 2013年 8月14日 | |
特許 5262650 | ポジ型レジストパターン形成方法及びポジ型レジストパターン形成用現像液 | 2013年 8月14日 | |
特許 5262631 | 感放射線性組成物 | 2013年 8月14日 | |
特許 5261935 | 高分子型燃料電池用電極電解質およびその用途 | 2013年 8月14日 | |
特許 5261934 | 高分子型燃料電池用電極電解質およびその用途 | 2013年 8月14日 | |
特許 5256641 | 接着剤組成物 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5257009 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5256953 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5250976 | 樹脂組成物及びその成形品 | 2013年 7月31日 | |
特許 5251214 | 積層光学フィルムの製造方法、積層光学フィルムおよびその用途 | 2013年 7月31日 | |
特許 5250923 | 超微粒子複合樹脂粒子、誘電体形成用組成物および電子部品 | 2013年 7月31日 | |
特許 5251470 | ネガ型感光性絶縁樹脂組成物及びその硬化物 | 2013年 7月31日 | |
特許 5251452 | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物及びその硬化物 | 2013年 7月31日 | |
特許 5251433 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5251424 | ネガ型感光性絶縁樹脂組成物及びその硬化物 | 2013年 7月31日 |
420 件中 181-195 件を表示
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5262651 5262650 5262631 5261935 5261934 5256641 5257009 5256953 5250976 5251214 5250923 5251470 5251452 5251433 5251424
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