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■ 2022年 特許取得件数ランキング 第339位 89件 (2021年:第271位 105件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7196389 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 | 2022年12月27日 | |
特許 7192589 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 | 2022年12月20日 | |
特許 7192590 | 電極材料製造装置及び電極材料製造方法 | 2022年12月20日 | |
特許 7192796 | 硬化性樹脂組成物、積層体、光学フィルターおよび化合物 | 2022年12月20日 | |
特許 7188533 | 液晶配向剤 | 2022年12月13日 | |
特許 7183863 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2022年12月 6日 | |
特許 7184092 | 基板の製造方法、組成物及び重合体 | 2022年12月 6日 | |
特許 7180202 | 硬化性組成物、硬化膜、表示素子及び硬化膜の形成方法 | 2022年11月30日 | |
特許 7173130 | 表示装置及びその作製方法、並びに液晶配向剤及び硬化性組成物 | 2022年11月16日 | |
特許 7173241 | 重合体、電極、蓄電デバイス及び重合体の製造方法 | 2022年11月16日 | |
特許 7169763 | 非水電解質二次電池 | 2022年11月11日 | |
特許 7167557 | 化学機械研磨用アルミナ砥粒及びその製造方法 | 2022年11月 9日 | |
特許 7167558 | 化学機械研磨用水系分散体 | 2022年11月 9日 | |
特許 7163839 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2022年11月 1日 | |
特許 7163918 | 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 | 2022年11月 1日 |
92 件中 1-15 件を表示
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7196389 7192589 7192590 7192796 7188533 7183863 7184092 7180202 7173130 7173241 7169763 7167557 7167558 7163839 7163918
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