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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第458位 69件
(
2022年:第397位 84件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第340位 93件
(
2022年:第339位 89件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7405228 | 光学フィルター用樹脂組成物、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 | 2023年12月26日 | |
| 特許 7405147 | 組成物、膜、膜形成方法、パターン形成方法、有機下層膜反転パターン形成方法及び組成物の製造方法 | 2023年12月26日 | |
| 特許 7405140 | 感光性樹脂組成物 | 2023年12月26日 | |
| 特許 7405079 | メッキ造形物の製造方法、回路基板、および表面処理剤、ならびに表面処理剤キット | 2023年12月26日 | |
| 特許 7400818 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7400679 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及び重合体 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7397419 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 | 2023年12月13日 | |
| 特許 7396360 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 | 2023年12月12日 | |
| 特許 7396177 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 | 2023年12月12日 | |
| 特許 7382600 | 質量分析用試料を調製するための材料 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7375515 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7375450 | 半導体処理用組成物及び処理方法 | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7375483 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7371729 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 | 2023年10月31日 | |
| 特許 7367694 | 有機硫黄化合物の製造方法、担体、当該担体の製造方法、リガンド固定担体、クロマトグラフィーカラム及び標的物質の検出又は単離方法 | 2023年10月24日 |
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7405228 7405147 7405140 7405079 7400818 7400679 7397419 7396360 7396177 7382600 7375515 7375450 7375483 7371729 7367694
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