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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第340位 99件
(
2019年:第416位 83件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第225位 128件
(
2019年:第203位 135件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6805475 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2020年12月23日 | |
| 特許 6799267 | 積層配線の形成方法 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6796911 | ネガ型レジストパターン形成方法及び上層膜形成用組成物 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6795753 | 硬化膜形成用樹脂材料、硬化膜の形成方法、硬化膜、半導体素子及び表示素子 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6794728 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6788198 | コンタクトホールパターンの形成方法及び組成物 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790634 | 熱可塑性エラストマー及びウェザーストリップの製造方法 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6791324 | 蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、及び蓄電デバイス | 2020年11月25日 | |
| 特許 6791251 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6787896 | 医療器材の製造方法および医療器材 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6787206 | レジストプロセス用ケイ素含有膜形成組成物、ケイ素含有膜及びパターン形成方法 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6786783 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成組成物及びパターン形成方法 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6780521 | 変性共役ジエン系重合体及びその製造方法、重合体組成物、架橋重合体、並びにタイヤ | 2020年11月 4日 | |
| 特許 6780504 | 固体撮像装置、赤外線吸収性組成物及び平坦化膜形成用硬化性組成物 | 2020年11月 4日 | |
| 特許 6774815 | 重合体およびその製造方法 | 2020年10月28日 |
131 件中 1-15 件を表示
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6805475 6799267 6796911 6795753 6794728 6788198 6790634 6791324 6791251 6787896 6787206 6786783 6780521 6780504 6774815
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