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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件 (2013年:第132位 382件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件 (2013年:第98位 420件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5418330 | 光学用熱可塑性樹脂組成物および成形品 | 2014年 2月19日 | |
特許 5423945 | シリカ系中空粒子分散体の製造方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5423965 | 非特異吸着防止剤 | 2014年 2月19日 | |
特許 5423937 | 絶縁膜形成用組成物の製造方法、ポリマーの製造方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5423367 | 酸転写用組成物、酸転写用膜及びパターン形成方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5423352 | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子の層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーならびにそれらの形成方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5418268 | 感放射線性樹脂組成物 | 2014年 2月19日 | |
特許 5418114 | ポリイミド系材料、ポリイミド系樹脂組成物、フィルム及びその製造方法 | 2014年 2月19日 | |
特許 5417864 | 重合体およびプロトン伝導膜 | 2014年 2月19日 | |
特許 5417863 | ポリアリーレン系共重合体および固体高分子電解質 | 2014年 2月19日 | |
特許 5418433 | マイクロアレイ用基板の形成方法、感光性組成物、着色剤を含有する組成物、マイクロアレイ用基板及びマイクロアレイ | 2014年 2月19日 | |
特許 5417994 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | 2014年 2月19日 | |
特許 5413571 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413570 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413569 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 |
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5418330 5423945 5423965 5423937 5423367 5423352 5418268 5418114 5417864 5417863 5418433 5417994 5413571 5413570 5413569
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