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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件 (2012年:第153位 299件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件 (2012年:第94位 428件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5353469 | 酸転写樹脂膜形成用組成物及びこれを用いたパターン形成方法 | 2013年11月27日 | |
特許 5354094 | アフィニティークロマトグラフィー用充填剤 | 2013年11月27日 | |
特許 5347465 | 感放射線性樹脂組成物 | 2013年11月20日 | |
特許 5347524 | 化学機械研磨パッドの研磨層形成用組成物、化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5347216 | 共重合体ラテックス及びその製造方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5348400 | シリカ粒子分散液およびその製造方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5348373 | ポリカルボシランの製造方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5347287 | ダイレクトメタノール型燃料電池用高分子電解質およびその用途 | 2013年11月20日 | |
特許 5344148 | 非特異吸着防止剤および物品のコーティング方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5348341 | 基材の処理方法、仮固定用組成物および半導体装置 | 2013年11月20日 | |
特許 5348444 | 蓄電デバイス用バインダー組成物、蓄電デバイス電極用スラリー、蓄電デバイス電極、保護膜形成用スラリー、保護膜、および蓄電デバイス | 2013年11月20日 | |
特許 5347665 | アルミニウム含有感光性組成物および電極の製造方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5344136 | 化学機械研磨用水系分散体、および該分散体の調製方法、ならびに半導体装置の化学機械研磨方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5343535 | 感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 | 2013年11月13日 | |
特許 5343527 | 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子 | 2013年11月13日 |
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5353469 5354094 5347465 5347524 5347216 5348400 5348373 5347287 5344148 5348341 5348444 5347665 5344136 5343535 5343527
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11月29日(金) - 東京 港区
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
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12月4日(水) - 東京 港区
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12月4日(水) -
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12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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