ＪＳＲ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
（
2012年：第153位 299件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
（
2012年：第94位 428件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5343999 | 光学フィルムの製造方法および光学フィルム、位相差フィルム並びに偏光板 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343738 | 樹脂組成物、光学膜及び光学用部材 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343527 | 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5339757 | 高分子型燃料電池用電極電解質およびその用途 | 2013年11月13日 | 共同出願 |
| 特許 5343482 | 化学気相成長方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343664 | 感放射線性樹脂組成物、有機ＥＬ表示素子用隔壁及び絶縁膜、並びにその形成方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5339062 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343535 | 感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343733 | 感放射線性樹脂組成物およびその用途、誘電体ならびに電子部品 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5339320 | 硬化性組成物及び反射防止膜 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343340 | 感放射線性樹脂組成物 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5343580 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5333029 | 電気接続部材および電気接続部材の製造方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333739 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5333740 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2013年11月 6日 |
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5343999 5343738 5343527 5339757 5343482 5343664 5339062 5343535 5343733 5339320 5343340 5343580 5333029 5333739 5333740
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