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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件 (2012年:第106位 436件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件 (2012年:第108位 382件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-168657 | 太陽電池モジュール表面保護用透明積層フィルム及び太陽電池モジュール | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166667 | 粉体用流動化剤及びその製造方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166716 | パーフルオロアルキレン基含有オルガノポリシロキサン、表面処理剤組成物及び該表面処理剤組成物で処理された物品 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-167669 | ケイ素含有表面改質剤、これを含むレジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166812 | ケイ素含有表面改質剤、これを含むレジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-167795 | ペリクルの製造方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-168409 | 光学半導体装置用パッケージとその製造方法、並びに光学半導体装置 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-163622 | 会合シリカの製造方法 | 2013年 8月22日 | 共同出願 |
特開 2013-165160 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-164588 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2013年 8月22日 | 共同出願 |
特開 2013-163604 | 多孔質ガラス母材の焼結方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163652 | 単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163861 | 軽希土類元素の抽出・分離方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-165102 | EUV用ペリクル | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-164543 | フォトマスクブランクの洗浄耐性評価方法、およびフォトマスクブランクの製造方法 | 2013年 8月22日 |
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2013-168657 2013-166667 2013-166716 2013-167669 2013-166812 2013-167795 2013-168409 2013-163622 2013-165160 2013-164588 2013-163604 2013-163652 2013-163861 2013-165102 2013-164543
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月1日(日) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
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12月11日(水) -
12月11日(水) -
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12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
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