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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
(2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
(2013年:第86位 460件)
(ランキング更新日:2025年5月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-136387 | シリコーン・有機樹脂複合積層板及びその製造方法、並びにこれを使用した発光半導体装置 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-136722 | カーテンエアーバッグ用液状シリコーンゴムコーティング剤組成物及びその製造方法 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-137435 | パターン形成方法 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-137473 | パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び単量体 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-133766 | 低置換度ヒドロキシプロピルセルロース水分散液を用いた湿式造粒打錠法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133722 | コーティング用組成物、薬物含有粒子、固形製剤及び薬物含有粒子の製造方法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133919 | 熱分解炭素被覆部材 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-134581 | 金属酸化物含有膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133725 | スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133723 | スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133833 | 付加硬化型シリコーン組成物、光学素子封止材および光学素子 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-133796 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び構造体 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-134592 | チタン含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-135267 | 珪素酸化物及びその製造方法、負極、ならびにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ | 2014年 7月24日 | |
特開 2014-131969 | 新規フルオレン化合物及びその製造方法 | 2014年 7月17日 |
412 件中 181-195 件を表示
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2014-136387 2014-136722 2014-137435 2014-137473 2014-133766 2014-133722 2014-133919 2014-134581 2014-133725 2014-133723 2014-133833 2014-133796 2014-134592 2014-135267 2014-131969
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5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
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