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信越化学工業株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第113位 412件 下降2013年:第95位 489件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第66位 549件 上昇2013年:第86位 460件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-132609 半導体デバイスの製造方法 2014年 7月17日
特開 2014-131004 ウエハ加工体、ウエハ加工用部材、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法 2014年 7月10日
特開 2014-131014 透明酸化物電極用表面修飾剤、表面修飾された透明酸化物電極、及び表面修飾された透明酸化物電極の製造方法 2014年 7月10日
特開 2014-127525 封止用樹脂付き金型成型用離型フィルム、それを用いた光半導体素子の封止方法及び該封止された光半導体素子を備えた光半導体デバイス 2014年 7月 7日
特開 2014-124781 光半導体封止用複合樹脂フィルム、その製造方法、それを用いた光半導体デバイス及びその製造方法 2014年 7月 7日
特開 2014-126623 レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及び高分子化合物 2014年 7月 7日
特開 2014-125624 低ガス透過性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置 2014年 7月 7日
特開 2014-126569 リソグラフィ用ペリクル 2014年 7月 7日
特開 2014-127704 集光型太陽電池モジュール及び集光型太陽電池モジュールの製造方法 2014年 7月 7日
特開 2014-122141 ガラス微粒子合成用バーナ及びガラス微粒子堆積体の製造方法 2014年 7月 3日
特開 2014-122949 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 2014年 7月 3日
特開 2014-122356 含フッ素エステル型高分子化合物 2014年 7月 3日
特開 2014-122281 ジアリル基含有ヒドロキシフェニル誘導体、シリコーン骨格含有高分子化合物、ネガ型レジスト材料、光硬化性ドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 2014年 7月 3日
特開 2014-122276 アダマンタン骨格含有化合物、シリコーン骨格含有高分子化合物、ネガ型レジスト材料、光硬化性ドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 2014年 7月 3日
特開 2014-122275 シリコーン骨格含有高分子化合物、ネガ型レジスト材料、光硬化性ドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 2014年 7月 3日

412 件中 196-210 件を表示

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2014-132609 2014-131004 2014-131014 2014-127525 2014-124781 2014-126623 2014-125624 2014-126569 2014-127704 2014-122141 2014-122949 2014-122356 2014-122281 2014-122276 2014-122275

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