特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第95位　489件（2012年：第106位　436件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第86位　460件（2012年：第108位　382件）

（ランキング更新日：2025年5月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-125156	パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び重合性エステル化合物	2013年 6月24日
特開 2013-124257	熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物	2013年 6月24日
特開 2013-125867	光学半導体装置用基台及びその製造方法、並びに光学半導体装置	2013年 6月24日
特開 2013-121915	一酸化珪素の製造装置及び製造方法	2013年 6月20日
特開 2013-122479	化学増幅ネガ型レジスト組成物、光硬化性ドライフィルム、その製造方法、パターン形成方法、及び電気・電子部品保護用皮膜	2013年 6月20日
特開 2013-122086	希土類元素フッ化物粉末溶射材料及び希土類元素フッ化物溶射部材	2013年 6月20日
特開 2013-119596	シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法	2013年 6月17日
特開 2013-119532	シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法	2013年 6月17日
特開 2013-119529	有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤並びにゴム組成物	2013年 6月17日
特開 2013-120194	レジスト保護膜材料及びパターン形成方法	2013年 6月17日
特開 2013-120840	積層基板	2013年 6月17日
特開 2013-116872	アミノ酸変性シラノール化合物及びシラノール縮合体含有水溶液、並びにその製造方法	2013年 6月13日
特開 2013-117012	フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、該組成物を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品	2013年 6月13日
特開 2013-116989	シリコーンゴム成形品の再密着防止方法	2013年 6月13日
再表 2011-96521	永久磁石回転機	2013年 6月13日

489 件中 256-270 件を表示

... 18

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-125156 2013-124257 2013-125867 2013-121915 2013-122479 2013-122086 2013-119596 2013-119532 2013-119529 2013-120194 2013-120840 2013-116872 2013-117012 2013-116989 2011-96521

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数