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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件 (2012年:第106位 436件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件 (2012年:第108位 382件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-125156 | パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び重合性エステル化合物 | 2013年 6月24日 | |
特開 2013-124257 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 | 2013年 6月24日 | |
特開 2013-125867 | 光学半導体装置用基台及びその製造方法、並びに光学半導体装置 | 2013年 6月24日 | |
特開 2013-121915 | 一酸化珪素の製造装置及び製造方法 | 2013年 6月20日 | |
特開 2013-122479 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物、光硬化性ドライフィルム、その製造方法、パターン形成方法、及び電気・電子部品保護用皮膜 | 2013年 6月20日 | |
特開 2013-122086 | 希土類元素フッ化物粉末溶射材料及び希土類元素フッ化物溶射部材 | 2013年 6月20日 | |
特開 2013-119596 | シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法 | 2013年 6月17日 | |
特開 2013-119532 | シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法 | 2013年 6月17日 | |
特開 2013-119529 | 有機ケイ素化合物及びその製造方法、ゴム用配合剤並びにゴム組成物 | 2013年 6月17日 | |
特開 2013-120194 | レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 | 2013年 6月17日 | |
特開 2013-120840 | 積層基板 | 2013年 6月17日 | |
特開 2013-116872 | アミノ酸変性シラノール化合物及びシラノール縮合体含有水溶液、並びにその製造方法 | 2013年 6月13日 | |
特開 2013-117012 | フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー組成物、該組成物を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品 | 2013年 6月13日 | |
特開 2013-116989 | シリコーンゴム成形品の再密着防止方法 | 2013年 6月13日 | |
再表 2011-96521 | 永久磁石回転機 | 2013年 6月13日 |
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2013-125156 2013-124257 2013-125867 2013-121915 2013-122479 2013-122086 2013-119596 2013-119532 2013-119529 2013-120194 2013-120840 2013-116872 2013-117012 2013-116989 2011-96521
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12月11日(水) -
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12月12日(木) - 東京 港区
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12月12日(木) - 東京 千代田
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12月13日(金) - 東京 品川
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