特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第106位　436件（2011年：第107位　416件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第108位　382件（2011年：第67位　474件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-98431	レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法	2012年 5月24日
特開 2012-97270	コーティング剤組成物及びその製造方法	2012年 5月24日
特開 2012-97251	放射線硬化性組成物	2012年 5月24日
特開 2012-97195	難燃性接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルム	2012年 5月24日
特開 2012-99664	光半導体装置用接着剤、光半導体装置用接着剤シート、光半導体装置用接着剤シートの製造方法、及び光半導体装置の製造方法	2012年 5月24日
特開 2012-97197	難燃性接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルム	2012年 5月24日
特開 2012-98572	光アイソレータ用積層体、その製造方法及び光アイソレータ	2012年 5月24日
特開 2012-100527	ボイスコイルモータ用磁気回路及びボイスコイルモータ	2012年 5月24日
特開 2012-99341	非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法、ならびにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ	2012年 5月24日
特開 2012-91960	クロロシラン類の精製方法	2012年 5月17日
特開 2012-92086	フッ素アルコール化合物、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法	2012年 5月17日
特開 2012-92268	接着剤組成物及び接着剤シート、半導体装置保護用材料、及び半導体装置	2012年 5月17日
特開 2012-92257	放射線硬化性シリコーン組成物	2012年 5月17日
特開 2012-92165	剥離紙又は剥離フィルム用シリコーンエマルジョン組成物、並びに剥離紙又は剥離フィルムとその製造方法	2012年 5月17日
特開 2012-92248	帯電防止性粘着剤	2012年 5月17日

436 件中 271-285 件を表示

... 19

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-98431 2012-97270 2012-97251 2012-97195 2012-99664 2012-97197 2012-98572 2012-100527 2012-99341 2012-91960 2012-92086 2012-92268 2012-92257 2012-92165 2012-92248

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数