特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2012年 > 出願公開一覧

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

  2012年 出願公開件数ランキング    第106位 436件 上昇2011年:第107位 416件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第108位 382件 下降2011年:第67位 474件)

(ランキング更新日:2024年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2013年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年  2021年  2022年  2023年  2024年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-98431 レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 2012年 5月24日
特開 2012-97270 コーティング剤組成物及びその製造方法 2012年 5月24日
特開 2012-97251 放射線硬化性組成物 2012年 5月24日
特開 2012-97195 難燃性接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルム 2012年 5月24日
特開 2012-99664 光半導体装置用接着剤、光半導体装置用接着剤シート、光半導体装置用接着剤シートの製造方法、及び光半導体装置の製造方法 2012年 5月24日
特開 2012-97197 難燃性接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルム 2012年 5月24日
特開 2012-98572 光アイソレータ用積層体、その製造方法及び光アイソレータ 2012年 5月24日
特開 2012-100527 ボイスコイルモータ用磁気回路及びボイスコイルモータ 2012年 5月24日
特開 2012-99341 非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法、ならびにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ 2012年 5月24日
特開 2012-91960 クロロシラン類の精製方法 2012年 5月17日
特開 2012-92086 フッ素アルコール化合物、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 2012年 5月17日
特開 2012-92268 接着剤組成物及び接着剤シート、半導体装置保護用材料、及び半導体装置 2012年 5月17日
特開 2012-92257 放射線硬化性シリコーン組成物 2012年 5月17日
特開 2012-92165 剥離紙又は剥離フィルム用シリコーンエマルジョン組成物、並びに剥離紙又は剥離フィルムとその製造方法 2012年 5月17日
特開 2012-92248 帯電防止性粘着剤 2012年 5月17日

436 件中 271-285 件を表示

をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-98431 2012-97270 2012-97251 2012-97195 2012-99664 2012-97197 2012-98572 2012-100527 2012-99341 2012-91960 2012-92086 2012-92268 2012-92257 2012-92165 2012-92248

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2024年 特許出願件数2024年 特許取得件数
2023年 特許出願件数2023年 特許取得件数
2022年 特許出願件数2022年 特許取得件数
2021年 特許出願件数2021年 特許取得件数
2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2017年 特許出願件数2017年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2011年 特許出願件数2011年 特許取得件数
出願人を検索

今週の知財セミナー (12月9日~12月15日)

来週の知財セミナー (12月16日~12月22日)

12月17日(火) - 佐賀 佐賀市

つながる特許庁in佐賀

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

あいだ特許事務所

〒195-0074 東京都町田市山崎町1089-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング 

商標登録・特許事務所富士山会

大阪府大阪市北区西天満3丁目5-10 オフィスポート大阪801号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング 

イージスエイド特許事務所

東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング