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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第106位 436件 (2011年:第107位 416件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第108位 382件 (2011年:第67位 474件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-33317 | 非水電解質二次電池用負極材とその製造方法及びリチウムイオン二次電池 | 2012年 2月16日 | |
特開 2012-32823 | フォトマスクブランク及びバイナリーマスクの製造方法 | 2012年 2月16日 | 共同出願 |
特開 2012-25596 | 会合シリカ微粒子の製造方法 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-24889 | 合成石英ガラス基板用研磨剤及びこれを用いた合成石英ガラス基板の製造方法 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25668 | アルコキシシリル化鎖状炭化水素の製造方法及びアルコキシシリル化鎖状炭化水素 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25924 | 液状エポキシ樹脂組成物及び該液状エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物で封止された半導体装置 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25876 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25846 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその製造方法 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25828 | 離型フィルム | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25805 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-25788 | ピペラジニル基を有する有機ケイ素化合物を含有する接着性組成物 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-28553 | 電子線用レジスト膜及び有機導電性膜が積層された被加工基板、該被加工基板の製造方法、及びレジストパターンの形成方法 | 2012年 2月 9日 | |
特開 2012-20917 | 反応炉洗浄装置および反応炉洗浄方法 | 2012年 2月 2日 | |
特開 2012-20904 | 合成石英ガラスブロックの熱処理方法 | 2012年 2月 2日 | |
特開 2012-21074 | 硬化性パーフルオロポリエーテル系ゲル組成物及びその硬化物を用いたゲル製品 | 2012年 2月 2日 |
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2012-33317 2012-32823 2012-25596 2012-24889 2012-25668 2012-25924 2012-25876 2012-25846 2012-25828 2012-25805 2012-25788 2012-28553 2012-20917 2012-20904 2012-21074
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
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12月10日(火) - 東京 港区
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12月11日(水) - 東京 港区
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12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
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12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
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