特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第95位　489件（2012年：第106位　436件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第86位　460件（2012年：第108位　382件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-243350	ウエハ加工体、ウエハ加工用部材、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法	2013年12月 5日
特開 2013-242997	リチウムイオン二次電池	2013年12月 5日
特開 2013-241533	室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法及び物品	2013年12月 5日
特開 2013-243347	太陽電池モジュール用シリコーン封止材及び太陽電池モジュール	2013年12月 5日
特開 2013-239525	熱伝導性シート供給体及び熱伝導性シートの供給方法	2013年11月28日
特開 2013-239632	モールド作製用ブランクおよびモールドの製造方法	2013年11月28日
特開 2013-237825	含フッ素アルコール化合物を含む硬化性組成物	2013年11月28日
特開 2013-239539	光半導体装置用基板とその製造方法、及び光半導体装置とその製造方法	2013年11月28日
特開 2013-237583	使用済合成石英ガラス基板の再生方法	2013年11月28日
特開 2013-238775	フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクブランク、フォトマスク、および、パターン転写方法	2013年11月28日
特開 2013-237824	含フッ素アルコール化合物を含む硬化性組成物	2013年11月28日
特開 2013-238777	フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および位相シフトマスクの製造方法	2013年11月28日
特開 2013-239540	光半導体装置用基板とその製造方法、及び光半導体装置とその製造方法	2013年11月28日
特開 2013-238778	フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法	2013年11月28日
特開 2013-238776	ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法	2013年11月28日

489 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー（をクリックすると全て選択します）

2013-243350 2013-242997 2013-241533 2013-243347 2013-239525 2013-239632 2013-237825 2013-239539 2013-237583 2013-238775 2013-237824 2013-238777 2013-239540 2013-238778 2013-238776

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数